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抛光混床
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抛光混床


抛光混床一般用于超纯水处理系统末端,来保证系统出水水质能够维持用水标准。一般出水水质都能达到18兆欧以上,以及对 TOC、SLO2 都有一定的控制能力。


描述

抛光混床一般用于超纯水处理系统末端,来保证系统出水水质能够维持用水标准。一般出水水质都能达到18兆欧以上,以及对 TOC、SLO2 都有一定的控制能力。

由于通过混合离子交换后进入水中的氢离子与氢氧离子,立即生成电离度很低的水分子(H20),很少可能形成阳离子或阴离子交换时的反离子,可以使交换反应进行得十分彻底,活水水质优良。用强酸强碱树脂填装的混床,出水含业率在1oom/以下,电导率小于0.1-0.2uS/cm,二氧化硅泄露量在20ppb/左右,出水PH值显中性。

产水水质高且水质稳定,短时间运行条件变化,如进水水质或组分,运行流量等)对混床水质影响不大。

间断运行对产水水质影响小,恢复到停运前的活水水质所需时间短,交换终点明显。

单级反渗透,出水水质:电导率≤30us/cm;出水量:0.5T/h(10吨/天)水综合利用率:70%(设有二次回流装置);

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